分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3

產品簡介
●非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測
●采用分光干涉法實現高度檢測再現性
●可進行高速的即時研磨檢測
●可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測
●可對應長工作距離、且容易安裝于產線或者設備中
●體積小、省空間、設備安裝簡易
●可對應線上檢測的外部信號觸發需求
●采用最適shi合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得專zhuan利)
●可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)

產品型號：

更新時間：2025-06-24

廠商性質：生產廠家

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產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統

顯微缺陷膜厚半導體晶圓缺陷檢測儀高光譜測試系統瞬態吸收系統太陽能電池量子效率太陽光模擬器IV系統顯微光電流成像系統探測器光響應度系統光譜變溫附件探針臺拉曼SERS增強試劑顯微熒光系統組合熒光系統鏡頭透過率測試系統漫反射率測試系統反射、吸收率系統成像亮度計標準燈參考輻射定標電致發光系統常規發射光譜系統共聚焦拉曼光譜儀

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即時檢測

WAFER基板于研磨制程中的膜厚

玻璃基板(強酸環境中)于減薄制程中的厚度變化

規格式樣

	SF-3
膜厚測量范圍	0.1 μm ~ 1600 μm※1
膜厚精度	±0.1% 以下
重復精度	0.001% 以下
測量時間	10msec 以下
測量光源	半導體光源
測量口徑	Φ27μm※2
WD	3 mm ~ 200 mm
測量時間	10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 最小Φ6μm

上海波銘科學儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統、晶萃光學機械和光學平臺、激光器、Edmund 光學元件、Newport 產品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學測試系統、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導體測試設備及高低溫探針臺系統。經過多年的發展，上海波銘科學儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產品和服務在行業內具有較高的知zhi名度和美譽度，客戶遍布全國。我們將繼續努力，不斷提升市場地位和影響力。

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