光波場三維顯微鏡 MINUK

產品簡介
MINUK是一種可以評估納米量級的透明異物和缺陷的設備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。
此外，還可以高速掃描任何表面并確定測量位置，而無需對焦。

產品型號：

更新時間：2025-06-24

廠商性質：生產廠家

訪問量：392

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產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統

顯微缺陷膜厚半導體晶圓缺陷檢測儀高光譜測試系統瞬態吸收系統太陽能電池量子效率太陽光模擬器IV系統顯微光電流成像系統探測器光響應度系統光譜變溫附件探針臺拉曼SERS增強試劑顯微熒光系統組合熒光系統鏡頭透過率測試系統漫反射率測試系統反射、吸收率系統成像亮度計標準燈參考輻射定標電致發光系統常規發射光譜系統共聚焦拉曼光譜儀

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特征

可以透明地評估納米量級的污染物和缺陷。
單次拍攝瞬時深度信息
無需對焦即可實現高速測量
非破壞性、非接觸式和非侵入式測量
高速掃描任何表面，便于確定測量位置

規格

分辨率 x，y	691 nm（單次），488 nm（成分）
視場 x，y	700×700微米
分辨率 z	10 nm（延遲）
數字重對焦范圍 z	±700微米
樣本量	100×80×t20 mm
	（連接多功能樣品架時）
樣品臺	用于微調的自動 XY 載物臺
	X：±10 mm Y：±10 mm
	用于粗調的載物臺
	X：129 mm Y：85 mm
激光	波長 638 nm
	輸出 0.39 mW 以下，Class1
	（對樣品的照射強度）
描述	主機：505（W）×630（D）×439（H）
（寬度×深度×高度）毫米
重量	41 千克
功耗	主機：290 VA
	*不包括PC和配件。

應用

肉眼看不見的透明薄膜表面的可視化和量化

納米階的形狀信息可以通過非接觸、非破壞性和非侵入性的方式獲得。通過單次拍攝獲取深度方向信息，可以可視化和量化透明薄膜表面的劃痕以及肉眼看不見的缺陷的橫截面形狀。

光波場三維顯微鏡 MINUK

觀察透明薄膜內部的填料

透明薄膜內的填充物可以在一次拍攝中觀察到，這是肉眼看不見的。此外，通過在測量后改變深度方向的焦點，可以識別每個深度的填料。

光波場三維顯微鏡 MINUK

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MINUK是一種可以評估納米量級的透明異物和缺陷的設備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。
此外，還可以高速掃描任何表面并確定測量位置，而無需對焦。

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產品簡介 MINUK是一種可以評估納米量級的透明異物和缺陷的設備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。此外，還可以高速掃描任何表面并確定測量位置，而無需對焦。

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MINUK是一種可以評估納米量級的透明異物和缺陷的設備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無損、非接觸、非侵入性地進行測量。
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